透明導電電極對各種光電子設備的操作至關重要，廣泛用于高容量應用設備中，比如顯示器、太陽能電池以及LED 。當前主要用銦錫氧化物（ITO）等透明導電金屬氧化物來生產電極，然而，出于成本、產量以及性能方面的綜合考量，市場對以其他解決方案替代ITO的需求逐漸增長。
近期關于納米圖案金屬光學屬性的發(fā)現使人們可開發(fā)新型透明電極，無需依賴ITO。密歇根大學技術轉移辦公室授權的納米結構電極技術，結合Rolith公司現有的“Rolling Mask Lithography”光刻技術，將為市場提供便利實惠的生產解決方案。
