中國(guó)儲(chǔ)能網(wǎng)訊:生產(chǎn)高級(jí)納米結(jié)構(gòu)涂層和設(shè)備的Rolith公司12月20日宣布,密歇根大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)移辦公室獨(dú)家授權(quán)該公司使用微米和納米圖案結(jié)構(gòu)基材,生產(chǎn)透明導(dǎo)電電極。這一授權(quán)的生產(chǎn)方法由密歇根大學(xué)教授Jay Guo開(kāi)發(fā),以運(yùn)用連續(xù)光學(xué)光刻的圖案結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ),是生產(chǎn)透明導(dǎo)電電極的一種低成本、高產(chǎn)出的方法。
透明導(dǎo)電電極對(duì)各種光電子設(shè)備的操作至關(guān)重要,廣泛用于高容量應(yīng)用設(shè)備中,比如顯示器、太陽(yáng)能電池以及LED 。當(dāng)前主要用銦錫氧化物(ITO)等透明導(dǎo)電金屬氧化物來(lái)生產(chǎn)電極,然而,出于成本、產(chǎn)量以及性能方面的綜合考量,市場(chǎng)對(duì)以其他解決方案替代ITO的需求逐漸增長(zhǎng)。
近期關(guān)于納米圖案金屬光學(xué)屬性的發(fā)現(xiàn)使人們可開(kāi)發(fā)新型透明電極,無(wú)需依賴(lài)ITO。密歇根大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)移辦公室授權(quán)的納米結(jié)構(gòu)電極技術(shù),結(jié)合Rolith公司現(xiàn)有的“Rolling Mask Lithography”光刻技術(shù),將為市場(chǎng)提供便利實(shí)惠的生產(chǎn)解決方案。